Article Dans Une Revue
Surface and Coatings Technology
Année : 2008
Richard BASCHERA : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00396504
Soumis le : jeudi 18 juin 2009-13:17:50
Dernière modification le : jeudi 25 avril 2024-03:09:02
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00396504 , version 1
- DOI : 10.1016/j.surfcoat.2007.07.030
Citer
J. Tranchant, Pierre-Yves Tessier, J.P. Landesman, M. A. Djouadi, Benoit Angleraud, et al.. Relation between residual stresses and microstructure in Mo(Cr) thin films elaborated by ionized magnetron sputtering. Surface and Coatings Technology, 2008, 202 (11), pp.2247. ⟨10.1016/j.surfcoat.2007.07.030⟩. ⟨hal-00396504⟩
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