Communication Dans Un Congrès
Année : 2002
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00486213
Soumis le : mardi 25 mai 2010-13:09:21
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:16:25
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00486213 , version 1
Citer
V. Farys, C. Vannuffel, E. Quesnel, V. Muffato, P. Besson, et al.. Detection of defects on EUV lithography mask by dark field microscopy at 13.1 nm. 7th International Conference on X-Ray Microscopy, XRM, 2002, grenoble, France. ⟨hal-00486213⟩
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