Low-k epoxy silsesquioxane resists for UV nanoimprint lithography - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2007
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00394560 , version 1 (12-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00394560 , version 1

Citer

M. Chouiki, H. Ridaoui, M. Zelsmann, J. Boussey-Said, J. de Girolamo. Low-k epoxy silsesquioxane resists for UV nanoimprint lithography. Nanoimprint and Nanoprint Technology conference- NNT 2007, 2007, paris, France. ⟨hal-00394560⟩
36 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More