Communication Dans Un Congrès
Année : 2007
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00394560
Soumis le : vendredi 12 juin 2009-08:52:53
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:16:42
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00394560 , version 1
Citer
M. Chouiki, H. Ridaoui, M. Zelsmann, J. Boussey-Said, J. de Girolamo. Low-k epoxy silsesquioxane resists for UV nanoimprint lithography. Nanoimprint and Nanoprint Technology conference- NNT 2007, 2007, paris, France. ⟨hal-00394560⟩
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