Comparison of monomer and polymer resists in thermal nanoimprint lithography - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2008

Comparison of monomer and polymer resists in thermal nanoimprint lithography

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00387423 , version 1 (25-05-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00387423 , version 1

Citer

M. Zelsmann, C. Gourgon, J. Boussey-Said. Comparison of monomer and polymer resists in thermal nanoimprint lithography. Electron, Ion, Photon Beam Technology and Nanofabrication, 2008, portland, United States. ⟨hal-00387423⟩
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