Using a two step plasma etching process for diamond power devices
F. Thion
(1, 2)
,
K. Isoird
(1)
,
Dominique Planson
(2, 3)
,
Marie-Laure Locatelli
(4)
,
Henri Schneider
(1)
,
Sodjan Kone
(1)
K. Isoird
- Fonction : Auteur
- PersonId : 5585
- IdHAL : karine-isoird
- ORCID : 0000-0002-2878-6952
- IdRef : 069501416
Dominique Planson
- Fonction : Auteur
- PersonId : 15768
- IdHAL : dominique-planson
- ORCID : 0000-0002-1617-8757
- IdRef : 084080116
Marie-Laure Locatelli
- Fonction : Auteur
- PersonId : 180481
- IdHAL : marie-laure-locatelli
- ORCID : 0000-0001-5981-8649
- IdRef : 069502277
Henri Schneider
- Fonction : Auteur
- PersonId : 747388
- IdHAL : henri-schneider
- IdRef : 058588132