Using a two step plasma etching process for diamond power devices
F. Thion
(1, 2)
,
K. Isoird
(1)
,
Dominique Planson
(2, 3)
,
Marie-Laure Locatelli
(4)
,
Henri Schneider
(1, 5)
,
Sodjan Kone
(1)
1
LAAS-ISGE -
Équipe Intégration de Systèmes de Gestion de l'Énergie
2 EE - Ampère, Département Energie Electrique
3 INSA Lyon - Institut National des Sciences Appliquées de Lyon
4 LAPLACE-MDCE - Matériaux Diélectriques dans la Conversion d’Energie
5 LAPLACE-GENESYS - Groupe ENergie Electrique et SYStémique
2 EE - Ampère, Département Energie Electrique
3 INSA Lyon - Institut National des Sciences Appliquées de Lyon
4 LAPLACE-MDCE - Matériaux Diélectriques dans la Conversion d’Energie
5 LAPLACE-GENESYS - Groupe ENergie Electrique et SYStémique
K. Isoird
- Function : Author
- PersonId : 5585
- IdHAL : karine-isoird
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- IdRef : 069501416
Dominique Planson
- Function : Author
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- IdHAL : dominique-planson
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Marie-Laure Locatelli
- Function : Author
- PersonId : 180481
- IdHAL : marie-laure-locatelli
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Henri Schneider
- Function : Author
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- IdHAL : henri-schneider
- ORCID : 0009-0006-4479-8036
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