Article Dans Une Revue
Thin Solid Films
Année : 2019
Richard BASCHERA : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01972341
Soumis le : lundi 7 janvier 2019-16:13:57
Dernière modification le : mercredi 17 avril 2024-11:14:42
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01972341 , version 1
Citer
J. Keraudy, L. Athouël, J. Hamon, B. Girault, D. Gloaguen, et al.. Electrochemical characteristics of NixN thin films deposited by DC and HiPIMS reactive magnetron sputtering. Thin Solid Films, 2019, 669, pp.659-664. ⟨hal-01972341⟩
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