Electrochemical characteristics of NixN thin films deposited by DC and HiPIMS reactive magnetron sputtering - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2019

Electrochemical characteristics of NixN thin films deposited by DC and HiPIMS reactive magnetron sputtering

J. Keraudy
  • Fonction : Auteur
J. Hamon
  • Fonction : Auteur
B. Girault
D. Gloaguen
  • Fonction : Auteur
M. Richard-Plouet
P.-Y. Jouan
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01972341 , version 1 (07-01-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01972341 , version 1

Citer

J. Keraudy, L. Athouël, J. Hamon, B. Girault, D. Gloaguen, et al.. Electrochemical characteristics of NixN thin films deposited by DC and HiPIMS reactive magnetron sputtering. Thin Solid Films, 2019, 669, pp.659-664. ⟨hal-01972341⟩
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