Fifty nanometer lines patterned into silica using water developable chitosan bioresist and electron beam lithography
| Origine | Fichiers éditeurs autorisés sur une archive ouverte |
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| Origine | Fichiers éditeurs autorisés sur une archive ouverte |
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Soumis le : mardi 23 avril 2019-15:15:30
Dernière modification le : jeudi 23 avril 2026-14:50:05
Archivage à long terme le : mercredi 24 juillet 2019-14:21:04