Fifty nanometer lines patterned into silica using water developable chitosan bioresist and electron beam lithography - Archive ouverte HAL

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Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics Année : 2017

Fifty nanometer lines patterned into silica using water developable chitosan bioresist and electron beam lithography

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Mathieu Caillau

Fonction : Auteur

INL - Chimie et Nanobiotechnologies

Pierre Cremillieu

Fonction : Auteur
PersonId : 917860
IdHAL : pierre-cremillieu

INL - Plateforme Technologique Nanolyon

Emmanuelle Laurenceau

Fonction : Auteur
PersonId : 18212
IdHAL : emmanuelle-laurenceau
ORCID : 0000-0001-9601-7306
IdRef : 166885061

INL - Chimie et Nanobiotechnologies

Yann Chevolot

Fonction : Auteur
PersonId : 17893
IdHAL : yann-chevolot
ORCID : 0000-0003-3479-3371
IdRef : 150338090

INL - Chimie et Nanobiotechnologies

Jean-Louis Leclercq

Fonction : Auteur
PersonId : 20758
IdHAL : jean-louis-leclercq
ORCID : 0000-0002-3497-7229
IdRef : 166784796

INL - Nanophotonique

Sergei Alekseev

Fonction : Auteur

Taras Shevchenko National University of Kyiv

Céline Chevalier

Fonction : Auteur
PersonId : 170790
IdHAL : celine-chevalier
ORCID : 0009-0006-2719-6455

INL - Photovoltaïque

Thierry Delair

Fonction : Auteur
PersonId : 863899
ORCID : 0000-0003-0983-4557

Ingénierie des Matériaux Polymères

Mots clés

E-beam lithography Electron-beam lithography Acetic acid Plasma processing Polymers Carbohydrates Chemical processes Chemical elements Optical instrumentation Etching

Domaines

Polymères Matériaux

Fichier principal

Vignette du fichier

CAILLAU_CREMILLIEU_LAURENCEAU_et_al_2017.pdf (1.18 Mo)

Origine	Fichiers éditeurs autorisés sur une archive ouverte

Florian Doucet : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01730345

Soumis le : mardi 23 avril 2019-15:15:30

Dernière modification le : mercredi 3 juillet 2024-09:00:06

Archivage à long terme le : mercredi 24 juillet 2019-14:21:04

Dates et versions

hal-01730345 , version 1 (23-04-2019)

Licence

Copyright (Tous droits réservés)

Identifiants

HAL Id : hal-01730345 , version 1
DOI : 10.1116/1.4996870

Citer

Mathieu Caillau, Pierre Cremillieu, Emmanuelle Laurenceau, Yann Chevolot, Jean-Louis Leclercq, et al.. Fifty nanometer lines patterned into silica using water developable chitosan bioresist and electron beam lithography. Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics, 2017, 35 (6), pp.06GE01. ⟨10.1116/1.4996870⟩. ⟨hal-01730345⟩

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