Fifty nanometer lines patterned into silica using water developable chitosan bioresist and electron beam lithography - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics Année : 2017

Fifty nanometer lines patterned into silica using water developable chitosan bioresist and electron beam lithography

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hal-01730345 , version 1 (23-04-2019)

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Mathieu Caillau, Pierre Cremillieu, Emmanuelle Laurenceau, Yann Chevolot, Jean-Louis Leclercq, et al.. Fifty nanometer lines patterned into silica using water developable chitosan bioresist and electron beam lithography. Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics, 2017, 35 (6), pp.06GE01. ⟨10.1116/1.4996870⟩. ⟨hal-01730345⟩
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