Electrical characteristics of TiTaO thin films deposited on SiO2/Si substrates by magnetron sputtering
Siamak Salimy
(1)
,
Fatiha Challali
(1, 2)
,
Antoine Goullet
(1)
,
Marie-Paule Besland
(1)
,
Michèle Carette
(1)
,
Nicolas Gautier
(1)
,
A. Rhallabi
(1)
,
Serge Toutain
(3)
,
Dominique Averty
(3)
Antoine Goullet
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Marie-Paule Besland
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Michèle Carette
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Serge Toutain
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Dominique Averty
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