Dielectric properties of TiTaO thin films elaborated by rf magnetron sputtering - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2011

Dielectric properties of TiTaO thin films elaborated by rf magnetron sputtering

Domaines

Energie électrique

Sylvie Garcia  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00592460

Soumis le : jeudi 12 mai 2011-15:44:01

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:55:22

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00592460 , version 1 (12-05-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00592460 , version 1

Citer

Ahlem Rouahi, Fatiha Challali, Alain Sylvestre, Fadhel El Kamel, Christophe Vallée, et al.. Dielectric properties of TiTaO thin films elaborated by rf magnetron sputtering. E-MRS 2011 : Bilateral Energy Conference, May 2011, Nice, France. ⟨hal-00592460⟩

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