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Communication Dans Un Congrès Année : 2006

Material Modifications and Surface Roughness during Porous SiOCH Etching Processes

F. Bailly
  • Fonction : Auteur
T. David
  • Fonction : Auteur
A. Jacquier
  • Fonction : Auteur
Christophe Cardinaud
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00461612 , version 1 (05-03-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00461612 , version 1

Citer

F. Bailly, T. David, A. Jacquier, Maxime Darnon, Christophe Cardinaud. Material Modifications and Surface Roughness during Porous SiOCH Etching Processes. AVS 53rd international symposium, 2006, United States. ⟨hal-00461612⟩
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