Direct comparison of Si/High-K and Si/SiO2 channels in advanced FD SOI MOSFETs. - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2008
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00392447 , version 1 (08-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00392447 , version 1

Citer

L. Pham-Nguyen, C. Fenouillet-Beranger, A. Vandooren, A. Wild, G. Ghibaudo, et al.. Direct comparison of Si/High-K and Si/SiO2 channels in advanced FD SOI MOSFETs.. IEEE International SOI Conference, New Paltz, New York USA, Nov 2008, New York, United States. ⟨hal-00392447⟩
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