Impact of surface and buried interface passivation on ultrathin SOI electrical properties - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2008

Impact of surface and buried interface passivation on ultrathin SOI electrical properties

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00392096 , version 1 (05-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00392096 , version 1

Citer

G. Hamaide, F. Allibert, S. Cristoloveanu. Impact of surface and buried interface passivation on ultrathin SOI electrical properties. IEEE International SOI Conference, New Paltz, New York, USA, Oct 2008, New-York, United States. ⟨hal-00392096⟩
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