Communication Dans Un Congrès
Année : 2003
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00384234
Soumis le : jeudi 14 mai 2009-16:30:37
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:17:38
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00384234 , version 1
Citer
E. Pargon, N. Posseme, O. Joubert, L. Vallier. Resist transformation under low-k dielectric plasma paterning processes : impact on the process control. 203rd meeting of the Electrochemical Society (ECS),, 2003, France. pp.2003. ⟨hal-00384234⟩
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