Resist transformation under low-k dielectric plasma paterning processes : impact on the process control - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2003

Resist transformation under low-k dielectric plasma paterning processes : impact on the process control

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00384234 , version 1 (14-05-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00384234 , version 1

Citer

E. Pargon, N. Posseme, O. Joubert, L. Vallier. Resist transformation under low-k dielectric plasma paterning processes : impact on the process control. 203rd meeting of the Electrochemical Society (ECS),, 2003, France. pp.2003. ⟨hal-00384234⟩
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