Communication Dans Un Congrès
Année : 2006
Chahla Domenget : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00146919
Soumis le : mardi 15 mai 2007-15:26:20
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:17:45
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00146919 , version 1
Citer
S. Zaouia, C. Boccaccio, M. Sureddin, A.H. Perera, S. Cristoloveanu. Impact of process-induced strain in very short SOI PMOSFETs. Com. a NATO Advanced Research Workshop on Nanoscaled Semiconductor-On-Insulator Structures and Devices, 2006, Grenoble, France. pp.XX. ⟨hal-00146919⟩
46
Consultations
0
Téléchargements