Engineering Thin HZO Ferroelectric Layers: From Material Study to 3D Integration for Vertical Gate-All-Around FeFETs
Domaines
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| Origine | Fichiers produits par l'(les) auteur(s) |
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| Origine | Fichiers produits par l'(les) auteur(s) |
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Soumis le : lundi 1 juillet 2024-10:09:29
Dernière modification le : mercredi 22 octobre 2025-18:04:09