Résine pour la lithographie Electronique : Tests sur la HSQ Em Resist en poudre - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année : 2024

Resist for electronic lithography: Tests on HSQ Em Resist powder

Résine pour la lithographie Electronique : Tests sur la HSQ Em Resist en poudre

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hal-04610482 , version 1 (13-06-2024)

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  • HAL Id : hal-04610482 , version 1

Citer

Justine Harmel, Laure Noé, Sébastien Pinaud, Laurent Mazenq, Franck Carcenac, et al.. Résine pour la lithographie Electronique : Tests sur la HSQ Em Resist en poudre. Journées Renatech Lithographie/Gravure 2024, Jun 2024, CRHEA (Valbonne), France. 2024. ⟨hal-04610482⟩
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