Résine pour la lithographie Electronique : Tests sur la HSQ Em Resist en poudre - Archive ouverte HAL
Poster De Conférence Année : 2024

Resist for electronic lithography: Tests on HSQ Em Resist powder

Résine pour la lithographie Electronique : Tests sur la HSQ Em Resist en poudre

Mots clés

Lithography e-beam resist

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique Chimie
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https://hal.science/hal-04610482

Soumis le : jeudi 13 juin 2024-10:01:45

Dernière modification le : dimanche 15 décembre 2024-03:10:13

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Dates et versions

hal-04610482 , version 1 (13-06-2024)

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  • HAL Id : hal-04610482 , version 1

Citer

Justine Harmel, Laure Noé, Sébastien Pinaud, Laurent Mazenq, Franck Carcenac, et al.. Résine pour la lithographie Electronique : Tests sur la HSQ Em Resist en poudre. Journées Renatech Lithographie/Gravure 2024, Jun 2024, CRHEA (Valbonne), France. 2024. ⟨hal-04610482⟩

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