Estimation de températures de surface de substrat dans un procédé de Dépôt Chimique en phase Vapeur Assisté Plasma (PACVD) - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2001

Estimation de températures de surface de substrat dans un procédé de Dépôt Chimique en phase Vapeur Assisté Plasma (PACVD)

Résumé

L’objectif de cette étude est d’établir un modèle thermique dans une géométrie tridimensionnelle afin d’estimer la température de surface de matériaux à traiter par PACVD. Cette technique utilisée pour le traitement de surface d’antagonistes métalliques est brièvement présentée. Une démarche visant à déterminer les paramètres incertains (qui invalident le modèle) est exposée. Enfin, des perspectives relatives à cette étude préliminaire sont évoquées (métrologie, identification).
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hal-04539639 , version 1 (09-04-2024)

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  • HAL Id : hal-04539639 , version 1

Citer

Sébastien Rouquette, Laurent Autrique, Charles Chaussavoine, Laurent Thomas. Estimation de températures de surface de substrat dans un procédé de Dépôt Chimique en phase Vapeur Assisté Plasma (PACVD). Congrès de la société française de thermique, May 2001, nantes, France. ⟨hal-04539639⟩
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