Rapid Vapor-Phase Deposition of Oxide Overlayers on Thermally-Sensitive Device Stacks for Optoelectronics
Rob Jagt
,
Virgil Andrei
,
Solène Béchu
(1)
,
Motiar Rahaman
(2)
,
Tahmida N Huq
,
Weiwei Li
(3)
,
Mark Nikolka
(4)
,
Muriel Bouttemy
(1)
,
Mathieu Fregnaux
(1)
,
Vlado Lazarov
(5)
,
Judith Macmanus-Driscoll
(6)
,
Philip Schulz
(7, 8)
,
Erwin Reisner
(9)
,
Robert Hoye
1
ILV -
Institut Lavoisier de Versailles
2 UNIBE - Universität Bern / University of Bern
3 Qingdao University of Science and Technology
4 Cavendish Laboratory
5 University of York [York, UK]
6 DMSM - Department of Materials Science and Metallurgy [Cambridge University]
7 IPVF - Institut Photovoltaïque d’Ile-de-France (ITE)
8 IPVF - Institut Photovoltaïque d’Ile-de-France (UMR)
9 Department of Chemistry
2 UNIBE - Universität Bern / University of Bern
3 Qingdao University of Science and Technology
4 Cavendish Laboratory
5 University of York [York, UK]
6 DMSM - Department of Materials Science and Metallurgy [Cambridge University]
7 IPVF - Institut Photovoltaïque d’Ile-de-France (ITE)
8 IPVF - Institut Photovoltaïque d’Ile-de-France (UMR)
9 Department of Chemistry
Rob Jagt
- Fonction : Auteur
Virgil Andrei
- Fonction : Auteur
Tahmida N Huq
- Fonction : Auteur
Mathieu Fregnaux
- Fonction : Auteur
- PersonId : 737899
- IdHAL : mathieu-fregnaux
- ORCID : 0000-0002-3915-3982
- IdRef : 16965740X
Robert Hoye
- Fonction : Auteur