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Communication Dans Un Congrès Année : 2011

VOLTAGE WAVEFORM TAILORING: A PROMISING NEW METHOD FOR SILICON DEPOSITION

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02594747 , version 1 (15-05-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02594747 , version 1

Citer

Pierre-Alexandre Delattre, S. Pouliquen, E.V. Johnson, Nishant Sirse, Jean-Paul Booth. VOLTAGE WAVEFORM TAILORING: A PROMISING NEW METHOD FOR SILICON DEPOSITION. CIP (Congres International sur les Plasmas), Jun 2011, Nantes, France. ⟨hal-02594747⟩
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