VOLTAGE WAVEFORM TAILORING: A PROMISING NEW METHOD FOR SILICON DEPOSITION - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2011

VOLTAGE WAVEFORM TAILORING: A PROMISING NEW METHOD FOR SILICON DEPOSITION

Pierre-Alexandre Delattre
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Physique des Plasmas
S. Pouliquen
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Physique des Plasmas
E.V. Johnson
CV
Nishant Sirse
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Physique des Plasmas
Jean-Paul Booth
Laboratoire de Physique des Plasmas
CV

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

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https://hal.science/hal-02594747

Soumis le : vendredi 15 mai 2020-19:13:48

Dernière modification le : jeudi 1 août 2024-13:48:06

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Dates et versions

hal-02594747 , version 1 (15-05-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02594747 , version 1

Citer

Pierre-Alexandre Delattre, S. Pouliquen, E.V. Johnson, Nishant Sirse, Jean-Paul Booth. VOLTAGE WAVEFORM TAILORING: A PROMISING NEW METHOD FOR SILICON DEPOSITION. CIP (Congres International sur les Plasmas), Jun 2011, Nantes, France. ⟨hal-02594747⟩

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