Si/SiGe superlattice I/O finFETs in a vertically-stacked Gate-All-Around horizontal Nanowire Technology
G. Hellings
(1)
,
H. Mertens
(1)
,
A. Subirats
(1)
,
E. Simoen
(1)
,
T. Schram
(1)
,
L.-A. Ragnarsson
(1)
,
M. Simicic
(1)
,
S.-H. Chen
(1)
,
B. Parvais
(1)
,
D. Boudier
(2)
,
B Cretu
(2)
,
J. Machillot
(3)
,
V. Peña
(4)
,
S. Sun
(4)
,
N. Yoshida
(4)
,
N. Kim
(4)
,
A. Mocuta
(1)
,
D. Linten
(1)
,
N. Horiguchi
(1)