Detailed characterisation of Si Gate-All-Around Nanowire MOSFETs at cryogenic temperatures - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Solid-State Electronics Année : 2018

Detailed characterisation of Si Gate-All-Around Nanowire MOSFETs at cryogenic temperatures

B Cretu
E. Simoen
  • Fonction : Auteur
A. Veloso
  • Fonction : Auteur
N. Collaert
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02438730 , version 1 (14-01-2020)

Identifiants

Citer

D. Boudier, B Cretu, E. Simoen, A. Veloso, N. Collaert. Detailed characterisation of Si Gate-All-Around Nanowire MOSFETs at cryogenic temperatures. Solid-State Electronics, 2018, 143, pp.27-32. ⟨10.1016/j.sse.2018.02.015⟩. ⟨hal-02438730⟩
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