Role of the mask on contact etching at the 20 nm node - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2014
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02339987 , version 1 (30-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02339987 , version 1

Citer

Mokrane Mebarki, Maxime Darnon, Cecile Jenny, Delia Ristoiu, Nicolas Posseme, et al.. Role of the mask on contact etching at the 20 nm node. Plasma Etch and Strip in Microtechnologies conference, May 2014, Grenoble, France. ⟨hal-02339987⟩
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