Communication Dans Un Congrès
Année : 2014
Maxime Darnon : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02339987
Soumis le : mercredi 30 octobre 2019-15:50:04
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:30:07
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02339987 , version 1
Citer
Mokrane Mebarki, Maxime Darnon, Cecile Jenny, Delia Ristoiu, Nicolas Posseme, et al.. Role of the mask on contact etching at the 20 nm node. Plasma Etch and Strip in Microtechnologies conference, May 2014, Grenoble, France. ⟨hal-02339987⟩
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