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Chapitre D'ouvrage Année : 2015
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Dates et versions

hal-02339199 , version 1 (30-10-2019)

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Citer

Nicolas Posseme, Maxime Darnon. Introduction. Plasma Etching Processes for Interconnect Realization in VLSI, Elsevier, pp.1-13, 2015, ⟨10.1016/B978-1-78548-015-7.50001-9⟩. ⟨hal-02339199⟩
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