Chapitre D'ouvrage
Année : 2015
Maxime Darnon : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02339199
Soumis le : mercredi 30 octobre 2019-12:17:15
Dernière modification le : mardi 3 septembre 2024-11:16:05
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02339199 , version 1
- DOI : 10.1016/B978-1-78548-015-7.50001-9
Citer
Nicolas Posseme, Maxime Darnon. Introduction. Plasma Etching Processes for Interconnect Realization in VLSI, Elsevier, pp.1-13, 2015, ⟨10.1016/B978-1-78548-015-7.50001-9⟩. ⟨hal-02339199⟩
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