Poster De Conférence
Année : 2019
Christophe Levallois : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02291445
Soumis le : mercredi 18 septembre 2019-17:54:04
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:17:26
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02291445 , version 1
Citer
Nebile Isik Goktas, Jean-Pierre Landesman, Ray Lapierre, Shahram Ghanad-Tavakoli, Erwine Pargon, et al.. Effect of the plasma etching on InAsP/InP quantum well structures measured through low temperature micro-photoluminescence intensity scanning. 19th Canadian Semiconductor Science and Technology Conference (CSSTC 2019), Jul 2019, Saskatoon, Canada. ⟨hal-02291445⟩
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