Characterization of optics and masks for the EUV lithography - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2002

Dates et versions

hal-01951276 , version 1 (11-12-2018)

Identifiants

Citer

Valérie Paret, Pierre Boher, Roland Geyl, Bernard Vidal, Magali Putero, et al.. Characterization of optics and masks for the EUV lithography. Microelectronic Engineering, 2002, 61-62 (1-3), pp.145-155. ⟨10.1016/S0167-9317(02)00576-2⟩. ⟨hal-01951276⟩
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