Characterization of optics and masks for the EUV lithography - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2002

Characterization of optics and masks for the EUV lithography

Domaines

Matériaux

Magali Putero  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01951276

Soumis le : mardi 11 décembre 2018-12:27:48

Dernière modification le : mardi 3 septembre 2024-11:16:05

Consulter sur la plateforme ISTEX

Dates et versions

hal-01951276 , version 1 (11-12-2018)

Identifiants

Citer

Valérie Paret, Pierre Boher, Roland Geyl, Bernard Vidal, Magali Putero, et al.. Characterization of optics and masks for the EUV lithography. Microelectronic Engineering, 2002, 61-62 (1-3), pp.145-155. ⟨10.1016/S0167-9317(02)00576-2⟩. ⟨hal-01951276⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CEA UNIV-TLN CNRS UNIV-AMU IM2NP DRT LETI CEA-GRE
50 Consultations
0 Téléchargements

Altmetric

Partager

More