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Conference Papers Year : 2018

Region-Based Epipolar and Planar Geometry Estimation in Low─Textured Environments

Abstract

Given two views of the same scene, usual correspondence geometry estimation techniques classically exploit the well-established effectiveness of keypoint descriptors. However, such features have a hard time in poorly textured man-made environments, possibly containing repetitive patterns and/or specularities, such as industrial places. In that paper, we propose a novel method for two-view epipolar and planar geometry estimation that first aims at detecting and matching physical vertical planes frequently present in these environments, before estimating corresponding homographies. Inferred local correspondences are finally used to improve fundamental matrix estimation. The gain in precision is demonstrated on industrial and urban environments.
Etant données deux vues d'une même scène, les techniques classiques de mise en correspondance géométrique s'appuient généralement sur l'efficacité maintes fois démontrée des descripteurs de points d'intérêt. Cependant, de tels indices sont mis en difficulté dans des environnements peu texturés, contenant possiblement des structures répétées et/ou des spécularités, comme les environnements industriels. Dans ce papier, nous proposons une nouvelle méthode pour l'estimation des géométries épipolaire et planaire entre deux vues, qui vise tout d'abord à détecter et mettre en correspondance les plans verticaux souvent présents dans ces environnements, avant d'estimer les homographies correspondantes. Les correspondances locales ainsi générées sont ensuite utilisées pour améliorer l'estimation de la matrice fondamentale. Le gain en précision a été démontré sur des images d'environnements industriel et urbain.
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Dates and versions

hal-01802596 , version 1 (29-05-2018)

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Cite

Vincent Gaudillière, Gilles Simon, Marie-Odile Berger. Region-Based Epipolar and Planar Geometry Estimation in Low─Textured Environments. ICIP 2018 - 25th IEEE International Conference on Image Processing, Oct 2018, Athens, Greece. pp.898-902, ⟨10.1109/ICIP.2018.8451244⟩. ⟨hal-01802596⟩
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