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Communication Dans Un Congrès Année : 2004

Deposition of Aluminium Nitride films by Plasma enhanced chemical vapour deposition

Joel Alexis
J.D. Beguin
  • Fonction : Auteur
J.A. Petit
  • Fonction : Auteur
V. Rouessac
Marc Ferrato
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01741696 , version 1 (23-03-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01741696 , version 1

Citer

Sélim Dagdag, Joel Alexis, J.D. Beguin, J.A. Petit, V. Rouessac, et al.. Deposition of Aluminium Nitride films by Plasma enhanced chemical vapour deposition. 18th Int. Conf. on Surface Modification Technologies (SMT18), Nov 2004, Dijon, France. ⟨hal-01741696⟩
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