Deposition of Aluminium Nitride films by Plasma enhanced chemical vapour deposition - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2004

Deposition of Aluminium Nitride films by Plasma enhanced chemical vapour deposition

Sélim Dagdag
  • Fonction : Auteur
Institut Européen des membranes
Joel Alexis
Laboratoire Génie de Production
CV
J.D. Beguin
  • Fonction : Auteur
J.A. Petit
  • Fonction : Auteur
V. Rouessac
Institut Européen des membranes
CV
Jean Durand
  • Fonction : Auteur
Institut Européen des membranes
Marc Ferrato
  • Fonction : Auteur
Boostec

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Vincent Rouessac  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01741696

Soumis le : vendredi 23 mars 2018-13:31:09

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:12

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01741696 , version 1 (23-03-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01741696 , version 1

Citer

Sélim Dagdag, Joel Alexis, J.D. Beguin, J.A. Petit, V. Rouessac, et al.. Deposition of Aluminium Nitride films by Plasma enhanced chemical vapour deposition. 18th Int. Conf. on Surface Modification Technologies (SMT18), Nov 2004, Dijon, France. ⟨hal-01741696⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CNRS IEM CHIMIE UNIV-MONTPELLIER TOULOUSE-INP UT3-TOULOUSEINP LGP-ENIT
84 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More