The effect of SF 6 addition in a Cl 2 /Ar inductively coupled plasma for deep titanium etching - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Micromechanics and Microengineering Année : 2018
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Dates et versions

hal-01735469 , version 1 (16-03-2018)

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Citer

Edouard Laudrel, Thomas Tillocher, Yannick Meric, Philippe Lefaucheux, Bertrand Boutaud, et al.. The effect of SF 6 addition in a Cl 2 /Ar inductively coupled plasma for deep titanium etching. Journal of Micromechanics and Microengineering, 2018, 28 (5), ⟨10.1088/1361-6439/aaafe7⟩. ⟨hal-01735469⟩
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