Article Dans Une Revue
Journal of Micromechanics and Microengineering
Année : 2018
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https://hal.science/hal-01735469
Soumis le : vendredi 16 mars 2018-05:04:13
Dernière modification le : mercredi 19 février 2025-10:57:26
Citer
Edouard Laudrel, Thomas Tillocher, Yannick Meric, Philippe Lefaucheux, Bertrand Boutaud, et al.. The effect of SF 6 addition in a Cl 2 /Ar inductively coupled plasma for deep titanium etching. Journal of Micromechanics and Microengineering, 2018, 28 (5), ⟨10.1088/1361-6439/aaafe7⟩. ⟨hal-01735469⟩
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