Schottky barrier height reduction using strained silicon-on-insulator and dopant segregation
Domaines
Sciences de l'ingénieur [physics]Origine | Fichiers produits par l'(les) auteur(s) |
---|
Origine | Fichiers produits par l'(les) auteur(s) |
---|
Emmanuel Dubois : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00790413
Soumis le : lundi 16 septembre 2024-09:38:34
Dernière modification le : mercredi 18 septembre 2024-03:22:06