Schottky barrier height reduction using strained silicon-on-insulator and dopant segregation
Domaines
| Origine | Fichiers produits par l'(les) auteur(s) |
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| Licence |
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https://hal.science/hal-00790413
Soumis le : lundi 16 septembre 2024-09:38:34
Dernière modification le : lundi 23 mars 2026-09:10:02