Comparison of Radio Frequency Physical Vapor Deposition target material used for LaOx cap layer deposition in 32nm
S. Baudot
,
P. Caubet
,
M. Grégoire
(1)
,
R. A. Bianchi
,
R. Pantel
(2)
,
S. Zoll
,
M. Gros-Jean
(3)
,
R. Boujamaa
,
P. Normandon
,
Cédric Leroux
(4)
,
G. Ghibaudo
(5)
1
UMS 831 -
Services communs OMP
2 ST-CROLLES - STMicroelectronics [Crolles]
3 SIMaP - Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés
4 Lab-STICC - Laboratoire des sciences et techniques de l'information, de la communication et de la connaissance (UMR 3192)
5 IMEP-LAHC - Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation
2 ST-CROLLES - STMicroelectronics [Crolles]
3 SIMaP - Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés
4 Lab-STICC - Laboratoire des sciences et techniques de l'information, de la communication et de la connaissance (UMR 3192)
5 IMEP-LAHC - Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation
S. Baudot
- Fonction : Auteur
P. Caubet
- Fonction : Auteur
R. A. Bianchi
- Fonction : Auteur
S. Zoll
- Fonction : Auteur
R. Boujamaa
- Fonction : Auteur
P. Normandon
- Fonction : Auteur
G. Ghibaudo
- Fonction : Auteur
- PersonId : 170596
- IdHAL : gerard-ghibaudo
- ORCID : 0000-0001-9901-0679
- IdRef : 069253099