Chemical kinetics of catalytic chemical vapor deposition of an acetylene/xylene mixture for improved carbon nanotube production - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Carbon Année : 2010
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00520202 , version 1 (22-09-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00520202 , version 1

Citer

Hao Li, Delong He, Tiehu Li, Maxime Genestoux, Jinbo Bai. Chemical kinetics of catalytic chemical vapor deposition of an acetylene/xylene mixture for improved carbon nanotube production. Carbon, 2010, 48, pp.4 3 3 0 -4 3 4 2. ⟨hal-00520202⟩
40 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More