Chemical kinetics of catalytic chemical vapor deposition of an acetylene/xylene mixture for improved carbon nanotube production - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Carbon Année : 2010

Chemical kinetics of catalytic chemical vapor deposition of an acetylene/xylene mixture for improved carbon nanotube production

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Jinbo Bai  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00520202

Soumis le : mercredi 22 septembre 2010-15:08:34

Dernière modification le : mercredi 21 août 2024-11:01:20

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Dates et versions

hal-00520202 , version 1 (22-09-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00520202 , version 1

Citer

Hao Li, Delong He, Tiehu Li, Maxime Genestoux, Jinbo Bai. Chemical kinetics of catalytic chemical vapor deposition of an acetylene/xylene mixture for improved carbon nanotube production. Carbon, 2010, 48, pp.4 3 3 0 -4 3 4 2. ⟨hal-00520202⟩

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