Chemical Vapour Deposition and Atomic layer Deposition processes of amorphous or nanocrystalline thin films - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2009

Chemical Vapour Deposition and Atomic layer Deposition processes of amorphous or nanocrystalline thin films

M. Pons
C. Vahlas

Domaines

Matériaux

Dates et versions

hal-00488402 , version 1 (01-06-2010)

Licence

Paternité

Identifiants

Citer

E. Blanquet, A. Mantoux, M. Pons, C. Vahlas. Chemical Vapour Deposition and Atomic layer Deposition processes of amorphous or nanocrystalline thin films. International Symposium on Metastable, Amorphous and Nanostructured Materials (ISMANAM 2009), Jul 2009, Pékin, China. ⟨10.1016/j.jallcom.2010.03.205⟩. ⟨hal-00488402⟩

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