Communication Dans Un Congrès
Année : 2009
Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00488402
Soumis le : mardi 1 juin 2010-20:04:49
Dernière modification le : samedi 27 septembre 2025-18:59:03
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00488402 , version 1
- DOI : 10.1016/j.jallcom.2010.03.205
Citer
E. Blanquet, A. Mantoux, M. Pons, C. Vahlas. Chemical Vapour Deposition and Atomic layer Deposition processes of amorphous or nanocrystalline thin films. International Symposium on Metastable, Amorphous and Nanostructured Materials (ISMANAM 2009), Jul 2009, Pékin, China. ⟨10.1016/j.jallcom.2010.03.205⟩. ⟨hal-00488402⟩
158
Consultations
0
Téléchargements