Article Dans Une Revue
Plasma Sources Science and Technology
Année : 2007
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00384274
Soumis le : jeudi 14 mai 2009-16:53:46
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:26
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00384274 , version 1
Citer
R. Ramos, G. Cunge, B. Pelissier, O. Joubert. Cleaning Aluminum Fluoride coatings from plasma reactor walls in SiCl4/Cl2 plasmas. Plasma Sources Science and Technology, 2007, pp.16, 711-715. ⟨hal-00384274⟩
164
Consultations
0
Téléchargements