Cleaning Aluminum Fluoride coatings from plasma reactor walls in SiCl4/Cl2 plasmas - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Plasma Sources Science and Technology Année : 2007

Cleaning Aluminum Fluoride coatings from plasma reactor walls in SiCl4/Cl2 plasmas

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00384274 , version 1 (14-05-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00384274 , version 1

Citer

R. Ramos, G. Cunge, B. Pelissier, O. Joubert. Cleaning Aluminum Fluoride coatings from plasma reactor walls in SiCl4/Cl2 plasmas. Plasma Sources Science and Technology, 2007, pp.16, 711-715. ⟨hal-00384274⟩
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