Communication Dans Un Congrès
Année : 2007
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https://hal.science/hal-00366988
Soumis le : mardi 10 mars 2009-11:02:52
Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00366988 , version 1
Citer
G. Raymond, Pascal Morin, Arnaud Devos, D.A. Hess, M. Braccini, et al.. Characterisation of silicon nitride thin films used as stressor liners on CMOS FETs. Proceedings of the Third International Conference on Innovations on Thin Films Processing and Characterisation, ITFPC07, 2007, Nancy, France. ⟨hal-00366988⟩
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