Electrical properties of Ta2O5 films obtained by plasma enhanced chemical vapor deposition using TaF5 source - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Applied Physics Letters Année : 1996

Electrical properties of Ta2O5 films obtained by plasma enhanced chemical vapor deposition using TaF5 source

R.A.B. Devine
  • Fonction : Auteur
P. Paillet
J.L. Leray
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00284566 , version 1 (03-06-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00284566 , version 1

Citer

R.A.B. Devine, Laurent Vallier, Jean-Luc Autran, P. Paillet, J.L. Leray. Electrical properties of Ta2O5 films obtained by plasma enhanced chemical vapor deposition using TaF5 source. Applied Physics Letters, 1996, 68 ((13),), pp.1775. ⟨hal-00284566⟩
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