Electrical properties of Ta2O5 films obtained by plasma enhanced chemical vapor deposition using TaF5 source - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Applied Physics Letters Année : 1996

Electrical properties of Ta2O5 films obtained by plasma enhanced chemical vapor deposition using TaF5 source

R.A.B. Devine
  • Fonction : Auteur
Laurent Vallier
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
Jean-Luc Autran
Laboratoire matériaux et microélectronique de Provence
P. Paillet
DAM Île-de-France
J.L. Leray
  • Fonction : Auteur

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00284566

Soumis le : mardi 3 juin 2008-12:37:46

Dernière modification le : lundi 9 décembre 2024-03:37:52

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Dates et versions

hal-00284566 , version 1 (03-06-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00284566 , version 1

Citer

R.A.B. Devine, Laurent Vallier, Jean-Luc Autran, P. Paillet, J.L. Leray. Electrical properties of Ta2O5 films obtained by plasma enhanced chemical vapor deposition using TaF5 source. Applied Physics Letters, 1996, 68 ((13),), pp.1775. ⟨hal-00284566⟩

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