Article Dans Une Revue
Applied Physics Letters
Année : 1996
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00284566
Soumis le : mardi 3 juin 2008-12:37:46
Dernière modification le : mardi 4 juin 2024-11:20:33
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00284566 , version 1
Citer
R.A.B. Devine, Laurent Vallier, Jean-Luc Autran, P. Paillet, J.L. Leray. Electrical properties of Ta2O5 films obtained by plasma enhanced chemical vapor deposition using TaF5 source. Applied Physics Letters, 1996, 68 ((13),), pp.1775. ⟨hal-00284566⟩
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