Chemical vapor deposition of thin films and coatings: Evaluation and process modeling - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Surface and Coatings Technology Année : 2007

Chemical vapor deposition of thin films and coatings: Evaluation and process modeling

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00196412 , version 1 (12-12-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00196412 , version 1

Citer

C. Bernard, E. Blanquet, M. Pons. Chemical vapor deposition of thin films and coatings: Evaluation and process modeling. Surface and Coatings Technology, 2007, 202, pp.790-797. ⟨hal-00196412⟩

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