Chemical vapor deposition of thin films and coatings: Evaluation and process modeling - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Surface and Coatings Technology Année : 2007

Chemical vapor deposition of thin films and coatings: Evaluation and process modeling

C. Bernard
  • Fonction : Auteur
Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés
E. Blanquet
Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés
M. Pons
Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés

Domaines

Matériaux Génie des procédés

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https://hal.science/hal-00196412

Soumis le : mercredi 12 décembre 2007-16:46:03

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13

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Dates et versions

hal-00196412 , version 1 (12-12-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00196412 , version 1

Citer

C. Bernard, E. Blanquet, M. Pons. Chemical vapor deposition of thin films and coatings: Evaluation and process modeling. Surface and Coatings Technology, 2007, 202, pp.790-797. ⟨hal-00196412⟩

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