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Article Dans Une Revue Revue de Physique Appliquée Année : 1986

Chemical diffusion for CoO and Cu2O deduced from creep transitories

C. Clauss
  • Fonction : Auteur
A. Dominguez-Rodriguez
  • Fonction : Auteur
J. Castaing
  • Fonction : Auteur

Résumé

The analysis of creep transitories after a change in oxygen partial pressure, allowed us to determine chemical diffusion coefficients for CoO and Cu 2O, single- and polycrystals. The rate of equilibration of point defect concentrations is similar for all defects. Grain boundaries do not seem to accelerate the process.
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Dates et versions

jpa-00245452 , version 1 (04-02-2008)

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Citer

C. Clauss, A. Dominguez-Rodriguez, J. Castaing. Chemical diffusion for CoO and Cu2O deduced from creep transitories. Revue de Physique Appliquée, 1986, 21 (6), pp.343-348. ⟨10.1051/rphysap:01986002106034300⟩. ⟨jpa-00245452⟩

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